Proses Penipisan Lapisan Ozon

Ozon merupakan gas tidak berwarna yang ditemukan di atas lapisan atmosfer bumi. Ozon dibentuk saat molekul oksigen menyerap foton dari sinar ultraviolet melalui reaksi kimia yang disebut fotolisis. Proses ini dimulai dengan pemecahan molekul oksigen (O₂) menjadi dua atom oksigen. Atom oksigen yang bebas kemudian berikatan dengan molekul oksigen (O₂) membentuk molekul ozon (O₃). Molekul ozon kemudian menyerap sinar ultraviolet dengan panjang gelombang antara 310 hingga 200 nm (nanometer) dan karena hal tersebut, lapisan ozon dapat mencegah radiasi berbahaya masuk ke atmosfer bumi.

Penipisan lapisan ozon telah ditemukan sejak pertengahan akhir tahun 1970dan sejak itu telah banyak dilakukan penelitian mengenai dampak dan penyebabnya. Beberapa substansi yang diketahui menyebabkan penipisan ozon kemudian dikenal sebagai Ozone-Depleting Substance (ODS).

Penyebab alami penipisan lapisan ozon

Penipisan ozon juga dapat disebabkan oleh sebab alami seperti Sun-spot dan angin stratosfer serta dari letusan gunung berapi. Namun, penyebab alami ini hanya menyumbang 1-2% pada penipisan lapisan ozon.

Proses Penipisan Lapisan Ozon dan gas Penyebabnya

Substansi yang menyebabkan penipisan ozon sebagian besar disumbang oleh aktivitas manusia seperti penggunaan pendingin dan industri. Substansi ini tidak akan terlarut kembali ke permukaan bumi bersama hujan dan menetap dilapisan bawah atmosfer hingga waktu yang lama. Apabila konsentrasinya stabil terus menerus, substansi ini akan bergerak ke lapisan stratosfer yang terpapar sinar ultraviolet sehingga mulai bereaksi dengan ozon dan terjadi penipisan lapisan ozon di atmosfer.

1. Produksi dan emisi kloroflourokarbon (CFC)

CFC merupakan Penyebab utama penipisan lapisan ozon. CFC menyumbang hamper 80% dari total penipisan yang terjadi pada lapisan ozon. Berikut merupakan proses penipisan lapisan ozon yang disebabkan CFC:

• Ketika CFC dilepaskan ke atmosfer, kandungan klorin pada CFC akan dipecah oleh sinar matahari
• Atom klorin akan bereaksi dengan ozon (O₃) menghasilkan klorin monoksida (CIO) dan satu atom oksigen.
• ClO bereaksi dengan molekul ozon yang lain dan membebaskan kembali atom klorin dan dua atom oksigen.
• Atom klorin yang terbebaskan kemudian bereaksi kembali dengan molekul ozon membentuk CIO baru dan reaksi ini berlanjut.
• Reaksi yang ditimbulkan dari proses diatas adalah menghancurkan molekul- molekul ozon. Hal ini yang menjadikan lapisan ozon semakin hari semakin menipis adalah molekul dari CFC mampu menghancurkan 100.000 molekul ozon.

2. Halona

Gas Halona atau dikenal juga dengan bromin florokarbon juga banyak berkontribusi pada penipisan ozon. Tetapi, penggunaannya sangat dibatasi pada pemadam api tertentu. Halona sangat kuat, efeknya sepuluh kali lebih besar dari ODS lainnya.

3. ODS lain yang diketahui termasuk hidrokloroflorokarbon (HCFCs) dan volatile organic compounds (VOCs). Kedua substansi ini sering ditemukan pada emisi kendaraan, hasil sampingan proses industry, pendingin dan aerosol. ODS relative stabil pada lapisan bawah atmosfer bumi, tetapi pada lapisan stratosfer yang terekspos radiasi sinar ultraviolet, subtansi ini akan terurai dan melepaskan atom klorin.

Seyawa diatas merupakan gas-gas yang memiliki daya tahan lama menuju stratoosfer yang mampu merusak lapisan ozon setelah pecah dan menghasilkan klorin atau bromin.

Proses penipisan ozon yang disebabkan oleh CFC yang mengancam penipisan lapisan ozon dengan cepat karena mudah diproduksi. Berikut merupakan proses terjadinya penipisan lapisan ozon.

Itulah proses terjadinya penipisan lapisan ozon yang disebabkan oleh gas- gas yang dikenal sebagai gas- gas rumah kaca. Semoga bermanfaat.